Fraunhofer-Gesellschaft

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Magnetronzerstäubung - Meilensteine aus 20 Jahren

Magnetron sputtering - milestones from 20 years
 
: Bräuer, G.

:

Vakuum in Forschung und Praxis 20 (2008), Nr.2, S.30-32
ISSN: 0947-076X
ISSN: 1522-2454
Deutsch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer IST ()

Abstract
Die Magnetronzerstäubung ist heute die bedeutendste Technologie zur Abscheidung hochwertiger dünner Schichten. Seit ihrer Einführung gegen Ende der siebziger Jahre hat sie einen Siegeszug durch alle industriellen Branchen angetreten, die zur Realisierung oder Verbesserung ihrer Produkte Dünnschichttechnologien benötigen. Die Magnetronkathode vereint die Vorzüge der ökonomischen Schichtherstellung mit der Möglichkeit, auch sehr temperaturempfindliche Kunststoffe zu beschichten. Wesentliche Probleme wie die schlechte Targetmaterialausnutzung des planaren Magnetrons oder die Stabilitätsprobleme bei der Abscheidung hochisolierender Schichten wurden in den vergangenen 20 Jahren durch zahlreiche Innovationen weitgehend gelöst. Gepulste Entladungen bei Leistungen bis hin zum MW-Bereich liefern hochionisierte Plasmen, die eine Basis für noch bessere Schichten bilden können.

 

Magnetron sputtering nowadays is the most important technology for the deposition of high-quality thin films. Since its introduction in the late seventies magnetron sputtering has conquered all industrial branches needing thin film technologies for the realization or improvement of their products. The magnetron cathode combines the advantages of economic deposition even on large areas and the ability to coat also very temperature sensitive plastic substrates. Main problems like poor target material utilization of the planar magnetron or process instabilities during deposition of highly insulating films have been solved by many innovations during the past 20 years. Novel films with even better quality seem to be possible with High Power Pulse Magnetron Sputtering .

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-87807.html