Fraunhofer-Gesellschaft

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UV nanoimprint lithography process optimization for electron device manufacturing on nanosized scale

Poster at MNE 2008, 34th International Conference on Micro and Nano Engineering, Athens, Greece
Prozessoptimierung für die UV Nanoimprint Lithografie zur Herstellung nanoskaliger elektronischer Bauelemente
 
: Schmitt, H.; Amon, B.; Petersen, S.; Rommel, M.; Bauer, A.J.; Ryssel, H.

:
Volltext urn:nbn:de:0011-n-874021 (2.6 MByte PDF)
MD5 Fingerprint: 056ac4ae6ad92d8417e61a57572d4885
Erstellt am: 23.1.2009


2008, 1 Folie
International Conference on Micro- and Nano-Engineering (MNE) <34, 2008, Athens>
Englisch
Poster, Elektronische Publikation
Fraunhofer IISB ()
UV nanoimprint lithography; residual layer; electron device; UV curing material; MOSFET; transistor

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-87402.html