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Verfahren zur Abscheidung einer Oxidschicht auf Absorbern von Solarzellen, Solarzelle und Verwendung des Verfahrens

Method for depositing a transparent conducting oxide layer on a solar cell having an absorber layer comprises using pulsed magnetron sputtering
 
: Sittinger, V.; Ruske, F.; Szyszka, B.

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DE 102006046312 A: 20060929
DE 102006046312 A: 20060929
C23C0014
H01L0031
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IST ()

Abstract
(A1) Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung mindestens eines stabilen, transparenten und leitfaehigen Schichtsystems auf Chalkopyrit-Solarzellenabsorber mittels hochionisierender PVD(physical vapour deposition)-Technologie durch High Power Pulsed Magnetron Sputtering (HPPMS) oder High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS), eine Solarzelle sowie Verwendungszwecke des Verfahrens.

 

DE 102006046312 A1 UPAB: 20080417 NOVELTY - Method for depositing a transparent conducting oxide layer on a solar cell having an absorber layer comprises using pulsed magnetron sputtering. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a solar cell. USE - Method for depositing a transparent conducting oxide layer on a solar cell having an absorber layer used in the production of a solar cell (claimed). ADVANTAGE - The solar cell has improved stability.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-75239.html