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Title
Niederdruck-Beschichtungsanlage und Verfahren zur Beschichtung von Partikel- oder Faser-Kollektiven mittels physikalischer oder chemischer Gasphasenabscheidung
Date Issued
2021
Author(s)
Patent No
DE102019215044
Abstract
Die Erfindung betrifft eine Niederdruck-Beschichtungsanlage und ein Verfahren zur Beschichtung von Partikel- oder Faser-Kollektiven mittels physikalischer oder chemischer Gasphasenabscheidung. Hierbei wird eine Deagglomerationsheit eingesetzt, durch welche die Partikel- oder Faserkollektive vereinzelt und anschließend beschichtet werden. Verwendung finden diese Partikel beispielsweise als Aktivmaterial für Batterien und Kondensatoren sowie als 3D-Druckpulver oder Farbpigmente. Verwendung finden die Fasern beispielsweise für Textilien, Membrane, Filter oder Verbundwerkstoffe.
Language
de
Patenprio
DE DE102019215044 A1: 20190930