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Vorrichtung zum Beschichten eines bandförmigen Substrates

 
: Rethberg, Sebastian; Straach, Steffen; Kühnel, Thomas

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DE 102019102008 A1: 20190128
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten eines bandförmigen Substrates (12; 22) innerhalb einer Vakuumkammer (10; 20), umfassend eine Beschichtungseinrichtung (11); eine Kühleinrichtung mit zumindest einem konvexen Oberflächenbereich, welchen das bandförmige Substrat (12; 22) zum Zeitpunkt des Beschichtens zumindest teilweise berührt sowie ein Wickelwerk, mindestens bestehend aus einer Vorratsrolle (13; 23), einer Aufnahmerolle (15; 25) und mehreren Umlenkrollen (14; 24), wobei das bandförmige Substrat (12; 22) zumindest an der Seite, mit welcher das bandförmige Substrat (12; 22) die Kühleinrichtung berührt, aus einem elektrisch leitfähigen Material besteht, wobeia) die Kühleinrichtung einen elektrisch leitfähigen Grundkörper (16a; 26a) und zumindest im konvexen Oberflächenbereich eine äußere Randschicht (16b; 26b) aus einem elektrisch isolierenden Material aufweist;b) das Wickelwerk potenzialfrei bezüglich der elektrischen Masse der Vorrichtung ausgebildet ist undc) eine elektrische Spannung von mindestens 10 V zwischen dem elektrisch leitfähigen Grundkörper (16a; 26a), der Kühleinrichtung und dem elektrisch leitfähigen Material des Substrates (12; 22) ausgebildet ist.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-635668.html