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Title
Photokatalytisches Schichtsystem mit hohem Schalthub
Date Issued
2007
Author(s)
Vergoehl, M.
Neumann, F.
Bialuch, I.
Patent No
102005035673
Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein photokatalytisches Schichtsystem mit hohem Schalthub, welches im unbeleuchteten Zustand hydrophob ist. Derartige photokatalytische Schichtsysteme werden insbesondere zur Beschichtung von Glaesern und Kunststoffen fuer Brillenglaeser, fuer Automobilscheiben oder -leuchten oder Fensterscheiben benoetigt; wobei das photokatalytische Schichtsystem mit einem Substrat und einer auf dem Substrat angeordneten ersten Schicht, die ein photokatalytisches Material mit photoinduzierbarer hoher Oberflaechenenergie, guter Benetzbarkeit bzw. Hydrophilie enthaelt oder daraus besteht, wobei auf der ersten Schicht eine zweite Schicht mit einer der ersten Schicht abgewandten, schlecht benetzbaren bzw. hydrophoben Oberflaeche angeordnet ist.
DE 102005035673 A1 UPAB: 20070504 NOVELTY - Photocatalytic layer system including substrate carrying first layer containing photocatalytic material of photo-inducible (sic) high surface energy and good wettability or hydrophile, where first layer carries second poorly wettable layer gives increased contact angles DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is included for a process of producing the layer system, where the second layer can be a layer of diamond-like carbon (DLC), by a PVD, ion beam sputtering, CVD, PECVD, evaporation, painting and/or a sol-gel process. USE - The layer system is useful for coating glass, ceramic, stone, and synthetic polymer materials as substrate, e.g. in the automobile industry, spectacle glasses, window panes, and sanitary articles (claimed). It is also useful in pressure technology and in research and analysis of biochemical products, capacitor coating, and coating of display elements and/or sensors (claimed). ADVANTAGE - The system enables contact angles of greater than 150 degrees to be obtained in the non-activated state. substrate (1) TiO2 layer (2) SiCON layer. (3)
Language
de
Patenprio
DE 102005035673 A: 20050729