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Verfahren zum Herstellen eines semitransparenten Displays sowie ein semitransparentes Display

 
: Brenner, Stephan; Kirchhoff, Volker; Richter, Bernd; Vogel, Uwe; Wartenberg, Philipp

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Frontpage ()

DE 102017129524 A1: 20171212
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft ein semitransparentes Display sowie ein Verfahren zum Herstellen eines semitransparenten Displays mit den Verfahrensschritten:a) Bereitstellen eines SOI-Wafers (100), dessen Oberfläche mindestens einen Pixelbereich (109) und mindestens einen neben dem Pixelbereich (109) angeordneten Kontaktbereich (110) aufweist, wobei der SOI-Wafer (100) auf der Rückseite ein Silizium-Substrat (101) umfasst;b) Abscheiden mindestens einer, elektromagnetische Strahlung emittierenden Schicht (201) auf der Vorderseite des SOI-Wafers (100);c) Auftragen mindestens einer transparenten Deckschicht (202) oberhalb der mindestens einen, elektromagnetische Strahlung emittierenden Schicht (201)d) Befestigen eines Verdrahtungsträgers (501; 601) an dem Verbund, welcher mindestens umfasst, den SOI-Wafer (100), die elektromagnetische Strahlung emittierende Schicht (201) und die transparente Deckschicht (202), wobei vor dem Befestigen des Verdrahtungsträgers (501; 601) an dem Verbund, bestehend aus dem SOI-Wafer (100), der elektromagnetische Strahlung emittierenden Schicht (201) und der transparenten Deckschicht (202), das Silizium-Substrat (101) vom Verbund entfernt wird, wodurch ein Restverbund (301) entsteht und elektrisch leitfähige Verbindungen zwischen dem Kontaktbereich (110) des SOI-Wafers (100) und des Verdrahtungsträgers (501; 601) von der Rückseite des SOI-Wafers (100) her ausgebildet werden.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-585997.html