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Herstellungsverfahren für eine metallische Kontaktierungsstruktur und photovoltaische Solarzelle mit einer metallischen Kontaktierungsstruktur

 
: Jäger, Ulrich; Lohmüller, Elmar; Lohmüller, Sabrina; Saint-Cast, Pierre; Wolf, Andreas

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Frontpage ()

DE 102017116833 A1: 20170725
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer ISE ()

Abstract
Die Erfindung betrifft ein Herstellungsverfahren für eine metallische Kontaktierungsstruktur einer Halbleiterschicht eines Halbleiterbauelementes, mit den VerfahrensschrittenA) Bereitstellen einer Halbleiterschicht;B) Erzeugen zumindest eines p-dotierten Bereiches angrenzend an eine Metallisierungsoberfläche der Halbleiterschicht;C) Aufbringen einer silberhaltigen Metallisierungsmasse unmittelbar oder unter Zwischenschaltung weiterer Zwischenschichten auf die Metallisierungsoberfläche der Halbleiterschicht in einem Kontaktierungsbereich, so dass die Metallisierungsmasse den p-dotierten Bereich zumindest teilweise bedeckt;D) Sintern der Metallisierungsmasse.Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die silberhaltige Metallisierungsmasse weniger als 0,5% Aluminium enthält und dass in einem Oberflächenbehandlungsschritt L die Metallisierungsoberfläche der Halbleiterschicht zumindest in dem Kontaktierungsbereich mit Laserstrahlung beaufschlagt wird, wobei Verfahrensschritt L vor Aufbringen der Metallisierungsmasse durchgeführt wird.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-585860.html