Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Highspeed PVD-Schichtsysteme

 
: Yildirim, Baycan

:
Volltext urn:nbn:de:0011-n-5659496 (65 KByte PDF)
MD5 Fingerprint: fd3e1e39968a7d2a846d7506a80d3e3d
Erstellt am: 13.2.2020


Europäische Sicherheit & Technik : ES & T 68 (2019), Nr.5, S.80
ISSN: 2193-746X
Deutsch
Zeitschriftenaufsatz, Elektronische Publikation
Fraunhofer INT ()
Schicht; Gasphasenabscheidung; physical vapour deposition; PVD; high speed-PVD; erosion

Abstract
Physical Vapour Deposition (PVD)-Verfahren sind Dünnschichttechnologien, bei denen das Beschichtungsmaterial mittels physikalischer Verfahren in die Gasphase überführt und anschließend auf einem Substrat kondensiert wird. Dabei rückt die neue High-Speed PVD-Technologie (HS-PVD) in den Vordergrund, charakterisiert durch eine essentiell höhere Abscheiderate verbunden mit der Realisierung dickerer und damit widerstandfähigerer Schichten. Die abgeschiedenen Schichten dienen insbesondere der Erhaltung wirkungsgradoptimaler Konturen und der Erhöhung der Lebensdauer zum Schutz vor Erosion im Bereich stationärer und rotierender Komponenten wie z.B. in Flugtriebwerken oder bei Pumpensystemen.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-565949.html