Fraunhofer-Gesellschaft

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Resistless Ga+ beam lithography for flexible prototyping of nanostructures

Presentation held at 16th Vacuum Nanoelectronics Symposium, February 28th - March 1st, 2019, Tokyo, Japan
 
: Rommel, Mathias

:
Präsentation urn:nbn:de:0011-n-5657367 (10 MByte PDF)
MD5 Fingerprint: baf72c371d3a5fe293b8e57e336aa838
Erstellt am: 29.11.2019


2019, 42 Folien
Vacuum Nanoelectronics Symposium <16, 2019, Tokyo>
Englisch
Vortrag, Elektronische Publikation
Fraunhofer IISB ()
focused ion beam; FIB; resistless Ga+ beam lithography; nanopatterning

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-565736.html