Fraunhofer-Gesellschaft

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Influence of Interfacial Oxides at TCO/doped Si Thin film Contacts on the charge Carrier Transport of Passivating Contacts

Presentation held at 46th IEEE Photovoltaic Specialists Conference, PVSC 2019, Chicago, USA, 16.06.2019-21.06.2019
 
: Messmer, C.; Bivour, M.; Luderer, C.; Tutsch, L.; Schön, J.; Hermle, M.

2019
Photovoltaic Specialists Conference (PVSC) <46, 2019, Chicago/Ill.>
Englisch
Vortrag
Fraunhofer ISE ()
Qualitätssicherung; Charakterisierung und Simulation; Photovoltaik; Silicium-Photovoltaik; Herstellung und Analyse von hocheffizienten Si-Solarzellen; silicon; heterojunction; simulation; tunneling; TCAD
Anfrage beim Institut / Available on request from the institute bibliothek@ise.fraunhofer.de

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-565543.html