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Title
Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
Date Issued
2018
Author(s)
Patent No
102017200952
Abstract
Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung mit: Bereitstellen einer Trägerstruktur, die ein Halbleitersubstrat aufweist; Aufbringen oder Einbringen einer Vorläufersubstanz auf oder in die Trägerstruktur; Behandeln der Vorläufersubstanz zum Erzeugen einer porösen Matrixstruktur; Einbringen einer Funktionalisierungssubstanz in die poröse Matrixstruktur.
A method of producing a semiconductor device includes providing a carrier structure having a semiconductor substrate; applying or introducing a precursor substance onto or into the carrier structure, treating the precursor substance for producing a porous matrix structure; introducing a functionalization substance into the porous matrix structure.
Language
de
Patenprio
DE 102017200952 A1: 20170120