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Verfahren zum Dotieren einer Graphen-Schicht

 
: Beyer, Beatrice; Dijon, Jean; Le Poche, Helene; Pesquera, Amaia; Wynands, David

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Frontpage ()

DE 102016118837 A1: 20161005
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Dotieren einer Graphen-Schicht (2), bei welchem die Graphen-Schicht (2) auf einem Trägersubstrat (1) abgeschieden, das Trägersubstrat (1) von der Graphen-Schicht in einer ersten Flüssigkeit (4) entfernt und die Graphen-Schicht (2) auf einen zu beschichtenden Oberflächenbereich eines Zielsubstrates (5) in einer zweiten Flüssigkeit (7) aufgetragen wird. Erfindungsgemäß wird ein Material (6) zum Dotieren der Graphen-Schicht (2) zumindest auf dem zu beschichtenden Oberflächenbereich des Zielsubstrates (5) abgeschieden, bevor die Graphen-Schicht (2) in der zweiten Flüssigkeit (7) auf den zu beschichtenden Oberflächenbereich des Zielsubstrates (5) aufgetragen wird.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-530749.html