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Title
Verfahren und Vorrichtung zur Inaktivierung von Trapping-Effekten in dotierten Halbleitern
Date Issued
2006
Author(s)
Patent No
102005010582
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Inaktivierung von Trapping-Effekten in einem Halbleiter sowie eine Implementierung dieses Verfahrens in einer Vorrichtung und einem Verfahren zur Messung der Ladungstraegerdichte freier Ladungstraeger in einem Halbleiter. Wesentlich ist, dass in den halbleiter Subband-Photonen mittels einer Subband-Photonenquelle injiziert werden, zur Inaktivierung der Trapping-Effekte. Die Subband-Photonen besitzen Energien, die kleiner als die Energiedifferenz zwischen Valenz- und Leitungsband des Halbleiters sind.
WO 2006092321 A1 UPAB: 20061103 NOVELTY - The method involves injecting subband photons from e.g. a laser source into a semiconductor (6), preferably heated to 60degreesC in order to empty the trap level. The subband photons are provided with energies that are smaller than the difference in energy between the conduction band and the valence band of the semiconductor. DETAILED DESCRIPTION - INDEPENDENT CLAIM are also included for the following: (A) Device for measuring the charge carrier density; and (B) Method for measuring charge carrier density USE - For deactivating trapping effects by free charge carriers in a semiconductor. ADVANTAGE - Ensures reduction in measuring error while measuring charge carrier density.
Language
de
Patenprio
DE 102005010582 A: 20050304