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Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Koppelgitters fuer einen Wellenleiter

Waveguide coupling grating manufacturing method, uses interference lithography with shadow mask used for defining outer edges of coupling grating.
 
: Gombert, A.; Niggemann, M.; Lerchenmueller, H.

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DE 2000-10059268 A: 20001129
DE 2000-10059268 A: 20001129
EP 2001-967064 AW: 20010824
WO 2001-DE3351 A: 20010824
DE 10059268 C1: 20020822
EP 1337881 A1: 20030827
G02B0006
G02B0006
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer ISE ()

Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur Herstellung eines Koppelgitters fuer einen Wellenleiter. Das Verfahren nutzt die Technik der Interferenzlithographie, bei der durch Ueberlagerung zweier kohaerenter Lichtbuendel auf einer lichtempfindlichen Schicht ein Interferenzmuster in diese Schicht belichtet wird. Durch nachfolgende Entwicklung und einen Aetzprozess wird dieses Muster in die Oberflaeche des darunter liegenden Substrates uebertragen. Das Verfahren zeichnet sich durch Verwendung einer Schattenmaske aus, die in einem Mindestabstand zur Oberflaeche der lichtempfindlichen Schicht angeordnet wird. Durch Einhaltung des Mindestabstandes werden die Fresnelschen Beugungsbilder der beiden Lichtbuendel an der Kante separiert. Die Dicke der lichtempfindlichen Schicht wird derart gewaehlt, dass die Ueberlagerung des Fresnelschen Beugungsmusters des einen Lichtbuendels mit dem ungestoerten anderen Lichtbuendel gerade ausreicht, um bei der anschliessenden Entwicklung der Schicht Bereiche des Substrates freizulegen. Mit dem Verfahren laesst sich die Uebertragung unerwuenschter Beugungseffekte an der Kante der Schattenmaske auf das Substrat vermeiden. Das Verfahren stellt eine kostenguenstige Loesung zur Herstellung grossflaechiger Koppelgittermatrizen dar.

 

WO 200244771 A UPAB: 20020815 NOVELTY - The manufacturing method uses interference lithography in which two coherent light beams (3,4) are directed onto a photo-sensitive layer (2) applied to a substrate for providing an interference pattern, which is developed before etching the substrate surface, with subsequent removal of the photo-sensitive layer. A shadow mask (6) is used during the exposure process, for defining the outer edges of the obtained coupling grating (5), with a minimum distance (d) between the shadow mask and the photo-sensitive layer for ensuring spatial separation of the Fresnel diffraction patterns provided by both light beams and a photo-sensitive layer thickness ensuring transfer of the interference pattern to the substrate upon etching. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM for a device for manufacture of a waveguide coupling grating is also included. USE - The method is used for manufacture of a waveguide coupling grating used for coupling light to an integrated waveguide. ADVANTAGE - The transfer of unwanted diffraction effects at the edges of the shadow mask is prevented.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-44734.html