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Title
Verfahren zur plasmaaktivierten Bedampfung, Einrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens sowie Verwendung des Verfahrens
Date Issued
2002
Author(s)
Morgner, H.
Straach, S.
Neumann, M.
Scheffel, B.
Jung, T.
Patent No
2001-10107725
Abstract
Bei verschiedenen plasmaaktivierten Bedampfungsverfahren ist es problematisch, ueber grosse Flaechenbereiche ein Plasma ausreichender Ladungstraegerdichte mit hoher Gleichmaessigkeit bereitzustellen. Durch die Ausnutzung des Hohlkathodeneffektes zwischen grossflaechigen Kathodenelementen gelingt es, grosse Teile der Bedampfungszone von einem dichten Hohlkathoden-Glimmentladungsplasma durchdringen zu lassen und grosse Flaechenbereiche zu beschichtender Substrate einer Aktivierung durch dieses Plasma zu unterziehen. Plasmaaktivierte Bedampfungsverfahren.
DE 10107725 A UPAB: 20030307 NOVELTY - Process for the plasma-active vaporization in a vacuum comprises converting vaporized material (5) into a gaseous state in a directly or indirectly heated vaporizer (4); and plasma-activating the substrate (3) before deposition. The vapor on the path from the vaporizer to the substrate passes through a zone of high density plasma of a hollow cathode glow discharge which is produced by overlapping or coinciding negative glow light from opposite-lying flat elements acting as cathodes. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a vacuum coating device consisting of a evacuated chamber, units for converting coating material into the gaseous state, units for receiving and/or guiding a substrate to be coated, and units for maintaining a hollow cathode glow discharge. USE - Used for coating a steel strip, aluminum strip, copper strip, polymer film, paper, textile materials, composite materials, metal, glass or plastic (claimed). ADVANTAGE - The vaporization is uniform.
Language
de
Patenprio
DE 2001-10107725 A: 20010219