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Title
Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem- Ultraviolettstrahlung/weicher Roentgenstrahlung
Date Issued
2002
Author(s)
Patent No
2001-10117378
Abstract
Verfahren zum Erzeugen von Extrem-Ultraviolettstrahlung/weicher Roentgenstrahlung, mittels einer Gasentladung, insbesondere fuer die EUV-Lithographie, bei dem in einem Entladungsgefaess (11) zwei Elektroden an Hochspannung gelegt werden, zwischen denen in einem Bereich zweier gleichachsiger Elektrodenausnehmungen (12, 13) eine Gasfuellung mit vorbestimmtem Gasdruck entsprechend eines auf dem linken Zweig der Paschen-Kurve erfolgenden Entladungsbetriebs bereitgestellt wird, in der ein die Strahlung abgebendes Plasma (10) unter Energiezufuhr ausgebildet wird, dadurch gekennzeichnet, dass das Plasma (10) im Bereich der Elektrodenausnehmungen (12, 13) mittels einer Druckaenderung der Gasfuellung verlagert wird.
DE 10134033 A UPAB: 20030129 NOVELTY - The method involves using a gas discharge in a discharge vessel (11) with two electrodes held at high voltage with a gas filling at predefined pressure in a region of two coaxial electrode apertures (12,13) in accordance with discharge operation on the left branch of the Pasch curve. The radiation emitting plasma (10) is formed by adding energy and is displaced and./or deformed by a pressure gradient in the gas filling. DETAILED DESCRIPTION - AN INDEPENDENT CLAIM is also included for the following: an arrangement for generating extreme ultraviolet radiation/weak x-radiation. USE - For generating extreme ultraviolet radiation/weak x-radiation, especially for extreme ultraviolet lithography. ADVANTAGE - Improved so that the radiation can be better coupled out from the electrodes and an optimum plasma geometry is achieved, i.e. an axially shorter emission region.
Language
de
Institute
Patenprio
DE 2001-10117378 A1: 20010406