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Title
Beschichtungsanlage
Date Issued
2003
Author(s)
Geisler, M.
Kastner, A.
Szyszka, B.
Pflug, A.
Malkomes, N.
Patent No
2002-10216671
Abstract
Bei einer Beschichtungsanlage ist ein Rezipient (1) durch eine Blende (2) in einen Kathodenraum (3) und einen Substratraum (4) unterteilt. Sowohl der Kathodenraum (3) als auch der Substratraum (4) weisen eine unmittelbare Absaugung (10, 16) und jeweils eine eigene Gaszufuehrung (8, 14) auf. Die Gaszufuehrung (8) in den Kathodenraum (3) ist mit einer Prozessgasquelle (9) und die Gaszufuehrung (14) fuer den Substratraum (4) mit einer Reaktivgasquelle (15) verbunden.
WO2003087426 A UPAB: 20031120 NOVELTY - A coating device has a cathode chamber (3) and a substrate chamber (4) each having a direct suction outlet (10, 16) and a gas feed (8, 14). The gas feed (8) into the cathode chamber is connected to a process gas source (9) and the gas feed (14) for the substrate chamber is connected to a reactive gas source (15). USE - Used for coating processes. ADVANTAGE - Complete reaction of the layer to be formed is achieved without the target surface reacting with the reactive gas in an unwanted manner.
Language
de
Patenprio
DE 2002-10216671 A: 20020415