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Title
Linear ausgedehnte Anordnung zur grossflaechigen Mikrowellenbehandlung und zur grossflaechigen Plasmaerzeugung
Date Issued
2001
Author(s)
Emmerich, R.
Kaiser, M.
Urban, H.
Elsner, P.
Baumgaertner, K.
Raeuchle, E.
Raeuchle, K.
Patent No
1999-19925493
Abstract
Zur Ermoeglichung einer nicht nur punktuellen intensiven Behandlung von zu behandelndem Gut, insbesondere zur Plasmabehandlung, sieht die Erfindung eine Vorrichtung zur Erzeugung von Mikrowellen zur Behandlung von Werkstuecken, mit mindestens einer Mikrowellen-Antenne mit einem gestreckten Leiter zur Erzeugung von elektromagnetischen Wechselfeldern, mit einem sich im wesentlichen ueber die Laenge des Leiters erstreckenden Gehaeuse und mit einem gestreckten, dem Leiter folgenden Auskopplungsbereich der Mikrowellen, wobei der Auskopplungsbereich im Gehaeuse liegt, bei der das Gehaeuse durch mindestens einen Hohlraumresonator gebildet ist, der Hohlraumresonator laenglich ausgebildet ist und im Verlauf der Mikrowellen-Antenne folgt, der Hohlraumresonator mindestens einen sich verjuengenden geschlossenen ersten Scheitelbereich aufweist, der Auskopplungsbereich sich im wesentlichen im Fokusbereich des Hohlraumresonators erstreckt und an den Hohlraumresonator sich ein zumindest nicht divergierender Gehaeusebereich anschliesst.
WO 200075955 A UPAB: 20010628 NOVELTY - The microwave treatment device has a microwave antenna (2), coupled to at least one microwave source, provided with an elongate electrical conductor (3) for providing an alternating electromagnetic field within an elongate hollow resonator (6), with the conductor positioned at one focus of the latter and a sleeve (10) enclosing the second focus, for providing a plasma for treatment of the workpiece. USE - The device is used for providing microwave heating or drying of a workpiece. ADVANTAGE - The device allows treatment of a large surface area of a workpiece, e.g. for continuous treatment.
Language
de
Patenprio
DE 1999-19925493 A: 19990604