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Vorrichtung zur Roentgenfluoreszenzanalyse

Analysis apparatus used in, e.g., thin layer semiconductor technology comprises an X-ray beam source to direct X-rays onto a sample positioned on a support, and a detector to determine the fluorescent radiation.
 
: Holz, T.

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DE 1999-19932275 A: 19990706
DE 1999-19932275 A: 19990706
EP 2000-947817 A: 20000622
WO 2000-DE2052 A: 20000622
DE 19932275 B4: 20050804
EP 1192451 A1: 20020403
G01N0023
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IWS ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Roentgenfluoreszenzanalyse, bei der Roentgenstrahlung einer Roentgenstrahlungsquelle auf eine auf einem Probentraeger befindliche Probe gerichtet und die Fluoreszenzstrahlung mit einem Detektor gemessen wird. Dabei soll die Nachweisempfindlichkeit, insbesondere gegenueber der Totalreflexionsroentgenfluoreszenzanalyse (TXRF) fuer verschiedenste Proben erhoeht werden. Zur Loesung dieses Problems wird die zu analysierende Probe auf einem Multischichtsystem angeordnet oder eine fluidische Probe stroemt ueber ein solches Multischichtsystem. Das Multischichtsystem besteht aus mindestens zwei oder mehreren sich periodisch wiederholend angeordneten Einzelschichten. Benachbarte Einzelschichten bestehen aus Materialien mit unterschiedlichem roentgenoptischen Brechungsindex, wobei die Periodendicken d im Multischichtsystem und der Einfallswinkel < der Roentgenstrahlung, bei der verwendeten Roentgenstrahlungswellenlaenge <, die BRAGGsche-Gleichung erfuellen. Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Roentgenfluoreszenzanalyse, bei der Roentgenstrahlung einer Roentgenstrahlungsquelle auf eine auf einem Probentraeger befindliche Probe gerichtet und die Fluoreszenzstrahlung mit einem Detektor gemessen wird. Dabei soll die Nachweisempfindlichkeit, insbesondere gegenueber der Totalreflexionsroentgenfluoreszenzanalyse (TXRF) fuer verschiedenste Proben erhoeht werden. Zur Loesung dieses Problems wird die zu analysierende Probe auf einem Multischichtsystem angeordnet oder eine fluidische Probe stroemt ueber ein solches Multischichtsystem. Das Multischichtsystem besteht aus mindestens zwei oder mehreren sich periodisch wiederholend angeordneten Einzelschichten. Benachbarte Einzelschichten bestehen aus Materialien mit unterschiedlichem roentgenoptischen Brechungsindex, wobei die Periodendicken d im Multischichtsystem und der Einfallswinkel ? der Roentgenstrahlung, bei der verwendeten Roentgenstrahlungswellenlaenge ?, die BRAGGsche-Gleichung erfuellen. Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Roentgenfluoreszenzanalyse, bei der Roentgenstrahlung einer Roentgenstrahlungsquelle auf eine auf einem Probentraeger befindliche Probe gerichtet und die Fluoreszenzstrahlung mit einem Detektor gemessen wird. Dabei soll die Nachweisempfindlichkeit, insbesondere gegenueber der Totalreflexionsroentgenfluoreszenzanalyse (TXRF) fuer verschiedenste Proben erhoeht werden. Zur Loesung dieses Problems wird die zu analysierende Probe auf einem Multischichtsystem angeordnet oder eine fluidische Probe stroemt ueber ein solches Multischichtsystem. Das Multischichtsystem besteht aus mindestens zwei oder mehreren sich periodisch wiederholend angeordneten Einzelschichten. Benachbarte Einzelschichten bestehen aus Materialien mit unterschiedlichem roentgenoptischen Brechungsindex, wobei die Periodendicken d im Multischichtsystem und der Einfallswinkel der Roentgenstrahlung, bei der verwendeten Roentgenstrahlungswellenlaenge H die BRAGGsche-Gleichung erfuellen.

 

WO 200102842 A UPAB: 20010317 NOVELTY - Analysis apparatus comprises an X-ray beam source (1) to direct X-rays onto a sample positioned on a support; and a detector (6) to determine the fluorescent radiation. The sample is arranged on a multi-layered system (4a) or a fluid sample flows over the multi-layered system. DETAILED DESCRIPTION - The multi-layered system consists of at least two or more periodically repeating individual layers made of materials with different X-ray optical refractive index. The periodic thickness in the multi-layered system and the incidence angle of the X-ray radiation fulfills the Bragg equation at the X-ray radiation wavelength used. An INDEPENDENT CLAIM is also included for a process for carrying out the X-ray fluorescence analysis. USE - In environmental technology and in thin layer semiconductor technology (claimed). ADVANTAGE - The apparatus has improved sensitivity for different samples.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-44390.html