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Verfahren zum Ausbilden einer Schicht mit hoher Lichttransmission und/oder niedriger Lichtreflexion

Method of forming a layer having high light transmission and/or low light reflection
 
: Junghähnel, Manuela; Preußner, Thomas; Hartung, Ullrich

:
Frontpage ()

DE 102015113542 A1: 20150817
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ausbilden einer Schicht mit hoher Lichttransmission und/oder niedriger Lichtreflexion, wobei die Schicht auf einem Substrat (2) abgeschieden wird. Dabei wird die Schicht als Mischschicht eines Materials A und eines Materials B abgeschieden, wobei die Schicht im Schichtdickenverlauf mit einem Gradienten derart ausgebildet wird, dass das Material B an der Substratoberfläche den geringsten Anteil und an der Schichtoberfläche den höchsten Anteil am Schichtmaterial aufweist und dass nach dem Abscheiden der Schicht das Material B zumindest teilweise aus der Schicht entfernt wird.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-442322.html