Verfahren zum Aufbereiten eines HNO3 enthaltenden flüssigen Prozessmittels in einem Verfahren zur chemischen Oberflächenbehandlung eines Halbleitersubstrats, wobei das Verfahren wenigstens umfasst, einen Schritt des Reoxidierens von HNO3 aus während der chemischen Oberflächenbehandlung des Halbleitersubstrats anfallenden Stickoxiden mittels Reagieren der Stickoxide mit einem oxidierenden Gas.