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Verfahren zur hochauflösenden Abbildung eines Oberflächenbereiches bei streifendem Einfall der Messstrahlung

 
: Bahrenberg, Lukas; Herbert, Stefan; Danylyuk, Serhiy

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Frontpage ()

DE 102015215559 A1: 20150814
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer ILT ()

Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur hochauflösenden Abbildung eines Oberflächenbereiches eines Objektes, das insbesondere für die Mikroskopie im EUV- oder VUV-Spektralbereich eingesetzt werden kann. Der Oberflächenbereich wird dabei unter streifendem Einfall mit der Messstrahlung beleuchtet und am Oberflächenbereich reflektierte Messstrahlung mit einem ortsauflösenden Detektor erfasst, um ein erstes Bild des Oberflächenbereiches unter einer ersten Einfallsrichtung der Messstrahlung aufzuzeichnen. Nach der Aufzeichnung des ersten Bildes wird wenigstens ein weiteres Bild des Oberflächenbereiches unter einer geänderten Einfallsrichtung der Messstrahlung aufgezeichnet und aus dem ersten und dem wenigstens einen weiteren Bild ein höher aufgelöstes Bild des Oberflächenbereiches rekonstruiert. Mit dem Verfahren lassen sich zweidimensional hochaufgelöste Bilder des Oberflächenbereiches bei streifendem Einfall der Messstrahlung erzeugen.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-442307.html