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Verfahren zur Herstellung eines thermisch stabilen Schichtsystems zur Reflexion von Strahlung im extremen ultravioletten Spektralbereich (EUV)

Thermally stable layer system used for reflecting extreme UV rays consists of layer pairs made up of a barrier layer of molybdenum silicide between a molybdenum layer and a silicon layer.
 
: Yulin, S.; Feigl, T.; Kaiser, N.

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DE 2000-10011548 A: 20000228
DE 2000-10011548 A: 20000228
DE 10011548 C2: 20030618
G02B0005
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IOF ()

Abstract
(A1) Es wird ein thermisch stabiles Schichtsystem zur Reflexion von Strahlung im extremen ultravioletten Spektralbereich vorgeschlagen, das aus einer Vielzahl von auf einem Subtrat uebereinanderliegenden Duennschichtpaaren jeweils einer aus einer Molybdaen- und einer Siliziumschicht besteht, wobei zwischen jeweils zwei benachbarten unterschiedlichen Materialschichten eine Barriereschicht angeordnet ist. Die Barriereschicht ist aus Molybdaensilizid (MoSi2) gebildet. Diese gewaehrleistet eine thermische Stabilitaet des Schichtsystems bis etwa 500°C und verringert die Reflexionswirkung in einem nur unbedeutenden Masse (ca. 2,5%).

 

DE 10011548 A UPAB: 20020508 NOVELTY - Thermally stable layer system consists of a number of thin layer pairs lying over each other on a substrate, each layer comprising a molybdenum and a silicon layer with a barrier layer of molybdenum silicide between them. DETAILED DESCRIPTION - Preferred Features: The number of layer pairs is in the region of 40-60. One layer pair has a thickness of 6.8 nm. The barrier layer is 0.7 nm thick. The layers are applied by PVD. USE - Used for reflecting extreme UV rays. ADVANTAGE - The system is stable up to 500 deg. C.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-44123.html