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Analyse und Modellierung der Einwirkung gepulster Plasmen auf Oberflächen. Teilvorhaben: Grundlegende Untersuchung der Zusammenhänge zwischen Plasmaparametern und Schichteigenschaften beim MF-Puls-Magnetronsputtern

Report: bmb+f. Bundesministerium für Bildung und Forschung, Forschungsberichte *
 
: Richter, F.; Bräuer, G.; Möller, W.

:
Volltext (PDF; )

Chemnitz, 2005, 119 S.
Reportnr.: BMBF 13N8053
Deutsch
Bericht, Elektronische Publikation
Fraunhofer FEP ()
Zerstäuben; Sputtern; Aufdampfen

Abstract
Die vorgestellten Arbeiten und Ergebnisse sind Teil eines Forschungsverbundes zur Analyse und Modellierung der Einwirkung gepulster Plasmen auf Oberflächen. Sie haben das Ziel zum physikalischen Verständnis der dabei auftretenden Phänomene beizutragen. Insbesondere wird das reaktive, mit Mittelfrequenz (MF) gepulste Magnetronsputtern betrachtet. Bei diesem Verfahren wurden durch empirisches Herangehen Ergebnisse für die reaktive Abscheidung von SiO2 und TiO2 erarbeitet. Durch in-situ-Messung am Prozess, vergleichende Analyse verschiedener Prozesse und sorgfältige Schichtcharakterisierung werden verallgemeinerungsfähige Aussagen angestrebt. Während für die Anwendung der MF-gepulsten Plasmatechnik auf die Herstellung von ITO-Schichten (indium tin oxide) weitere Untersuchungen notwendig sind, erscheint bei MgO-Schichten eine Aufskalierung auf die technisch relevante Kathodenlänge von 900 mm.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-38716.html