Fraunhofer-Gesellschaft

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Stabilization of high-deposition-rate reactive magnetron sputtering of oxides by in situ spectroscopic ellipsometry and plasma diagnostics

 

:

Journal of vacuum science and technology A. Vacuum, surfaces and films 18 (2000), Nr.4, S.1709-1712
ISSN: 0734-2101
Englisch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer IST ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-37761.html