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2005
Conference Paper
Titel
Easy-to-clean coatings produced by high-rate pulse magnetron sputtering and plasma-activated evaporation
Alternative
Leicht zu reinigende Beschichtungen hergestellt durch Magnetron-Sputtern mit hoher Pulsrate und plasmaaktivierte
Abstract
Kristalline Titandioxidfilme in der Anatas-Modifikation haben photokatalytische Wirkung, die durch Lichteinwirkung hydrophile, selbstreinigende und Fogging vermeidende Eigenschaften erzeugt. Hier werden die Eigenschaften von zwei Schichten, die mit verschiedenen PVD-Techniken hergestellt wurden, verglichen. Eine Schicht wurde mit reaktivem Magnetron-Sputtern (Abscheidung: 0,5 ... 3 nm/s) und die andere mit plasmaaktivierter Verdampfung (Abscheidung 40 ... 70 nm) erzeugt. Die mit Magnetron erzeugten Schichten waren 45 nm bis 500 nm dick. Die Röntgenanalyse zeigt, dass die Schichten je nach Abscheidungsbedingungen unterschiedliche Mengen an Rutil enthalten. Mit der plasmaaktivierten Elektronenstrahlabscheidung gelingt es, Schichten zu erzeugen, die ausschließlich Anatas-Struktur enthalten. Während bei Rutilstruktur der Beschichtung der Grenzwinkel von Wasser bei Belichtung nur unwesentlich abnimmt, ist er bei einer Anatasschicht in 0,5 h auf 0 Grad abgesunken. Die Magnetron-Beschichtung erlaubt Temperaturen unter 130 Grad, was auch die Beschichtung von Kunststoffen wie PET oder PC möglich macht. Schon dünne Schichten unter 50 nm haben genügend photokatalytische Aktivität für viele Anwendungen. Für die selbstreinigenden Eigenschaften ist die Beschichtung mit Plasmaaktivierung günstig.