Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Alignment accuracy in a MA/BA8 GEN3 using substrate conformal imprint lithography (SCIL)

 
: Fader, R.; Schömbs, U.; Verschuuren, M.

:
Volltext (HTML; )

Süss Report (2013), Nr.1, S.24-27
Englisch
Zeitschriftenaufsatz, Elektronische Publikation
Fraunhofer IISB ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-341466.html