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Title
Vorrichtung mit Abscheidekammer mit turbulenter Gasführung zur kontinuierlichen Beschichtung von Substraten mittels Gasphasenabscheidung sowie Verfahren zu diesem Zweck unter Verwendung einer solchen Vorrichtung
Date Issued
2015
Author(s)
Patent No
102013219816
Abstract
DE102013219816A1 [DE] Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur kontinuierlichen Beschichtung von Substraten mittels Gasphasenabscheidung. Die Vorrichtung enthaelt dabei eine an zwei sich gegenueberliegenden Seiten offene Abscheidekammer mit vier Waenden und zwei beweglichen Substrattraegern, mindestens zwei Gaseinlaesse und mindestens zwei Gasauslaesse. Die Substrate sind dabei auf den zwei Substrattraegern an den offenen Seiten der Abscheidekammer entlang in eine Richtung transportierbar. Bei den vier Waenden handelt es sich um jeweils eine zur Transportrichtung senkrecht angeordnete stirn- und rueckseitige Wand sowie zwei sich gegenueberliegende die stirn- und rueckseitige Wand miteinander verbindende Seitenwaende. Die mindestens zwei Gaseinlaesse sind dabei so zueinander angeordnet, dass durch die mindestens zwei Gaseinlaesse einleitbare Teilstroeme von Prozessgasen unter Ausbildung einer turbulenten Stroemung in der Abscheidekammer aufeinandertreffen.
Language
de
Patenprio
DE 102013219816 A1: 20130930