Fraunhofer-Gesellschaft

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Verfahren und Vorrichtung zur Beeinflussung der Schichtdickenverteilung auf Substraten sowie derart beschichtete Substrate

 
: Vergöhl, Michael

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Frontpage ()

DE 102013208771 A1: 20130513
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IST ()

Abstract
Source: DE102013208771A1 [DE] Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Beeinflussung der Schichtdickenverteilung auf Substraten bei Sputterprozessen unter Verwendung von mindestens zwei Magnetrons. Ebenso betrifft die Erfindung beschichtete Substrate mit einer ausgezeichneten Homogenitaet der Beschichtung.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-337383.html