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2005
Journal Article
Titel
Lithographieverfahren
Abstract
Lithographieverfahren werden vor allem in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von Sub-Mikrostrukturen auf einem geeigneten Trägermaterial eingesetzt. Zu den parallelen Strukturierungsmethoden gehören Optische Lithographie, Elektronenstrahl- und Ionenstrahl-Projektion, Atomlithographie sowie Röntgenlithographie. Serielle Verfahren sind das Ionenstrahl- und das Elektronenstrahlschreiben sowie Rastersonden-Lithographie. Unter dem Begriff Soft Lithographie werden solche Strukturierungsverfahren zusammengefasst, die zur Strukturerzeugung Stempel anstelle von Strahlung verwenden.
Language
German
Tags
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Lithographie
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lithography
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Elektronenstrahl-Projektion
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electron projection lithography
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Elektronenstrahlschreibe
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direct-write electron-beam
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Ionenstrahl-Projektion
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ion beam projection lithography
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Ionenstrahlschreibe
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ion beam direct-write deposition
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Atomstrahl-Lithographie
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atom lithography
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soft lithography