Fraunhofer-Gesellschaft

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Comparison of patterning silicon and silicon carbide using focused ion beam

Poster presented at IBMM 2014, 19th International Conference on Ion Beam Modification Materials, Leuven, Belgium, September 14-19, 2014
 
: Veerapandian, S.K.P.; Beuer, Susanne; Rumler, Maximilian; Stumpf, Florian; Thomas, Keith; Pillatsch, L.; Michler, Johannes; Frey, Lothar; Rommel, Mathias

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Poster urn:nbn:de:0011-n-3330604 (996 KByte PDF)
MD5 Fingerprint: c648f4f3f0d2fc78a37186cc439f2cfb
Erstellt am: 9.4.2015


2014, 1 Folie
International Conference on Ion Beam Modification of Materials (IBMM) <19, 2014, Leuven>
European Commission EC
FP7; 316560; STEEP
Englisch
Poster, Elektronische Publikation
Fraunhofer IISB ()
FIB; silicon; silicon carbide

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-333060.html