Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Diffusion properties of ion-implanted vanadium in PECVD-SiO2 and PECVD-SiN(x)

 
: Isenberg, J.; Reber, S.; Warta, W.

:

Journal of the Electrochemical Society 150 (2003), Nr.7, S.G365-G370
ISSN: 0013-4651
Englisch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer ISE ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-32719.html