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Hoch absorbierendes Schichtsysstem, Verfahren zur Herstellung des Schichtsystems und dafür geeignetes Sputtertarget

HIGHLY ABSORBING LAYER SYSTEM, METHOD FOR PRODUCING THE LAYER SYSTEM AND SUITABLE SPUTTERING TARGET THEREFOR
 
: Szyszka, Bernd

:
Frontpage ()

DE 102012112742 A1: 20121220
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IST ()

Abstract
Es wird ein Licht absorbierendes Schichtsystem aus mindestens zwei Schichten vorgeschlagen, von denen eine einem Betrachter zugewandte Antireflexschicht ist, die aus einem dielektrischen Werkstoff besteht und mindestens eine weitere eine dem Betrachter abgewandte Absorberschicht aus einem Oxid oder aus einem Oxinitrid mit unterstöchiometrischem Sauerstoffgehalt ist. Das Schichtsystem hat im Wellenlängenbereich von 380 bis 780 nm insgesamt eine visuelle Transmission Tv von weniger als 1 % und eine visuelle Reflexion Rv von weniger als 6 % und es zeichnet sich aus durch einen Absorptionsindex kappa von mindestens 0,70 bei einer Wellenlänge von 550 nm aus.

 

The invention relates to a light absorbing layer system consisting of at least two layers, one of which is an anti-reflective layer which faces an observer and which is made from a dielectric material, and at least one other layer is an absorbing layer facing away from the observer and is made from an oxide or from an oxynitride having a sub-stoichiometric oxygen content. Said layer system has a wavelength range of between 380 - 780nm including a visual transmission Tv of less than 1% and a visual reflection Rv of less than 6% and is characterised by a kappa absorption index of at least 0.70 with a wavelength of 550 mn.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-311070.html