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Multilayer-Spiegel für den EUV-Spektralbereich

MULTILAYER MIRROR FOR THE EUV SPECTRAL RANGE
 
: Yulin, Sergiy

:
Frontpage ()

DE 102012105369 A1: 20120620
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IOF ()

Abstract
Es wird ein Multilayer-Spiegel (100) für den EUV-Spektralbereich angegeben, umfassend - eine erste periodische Schichtenfolge (10), die eine Vielzahl von Schichtpaaren (12) aufweist, wobei die Schichtpaare (12) jeweils eine Schicht (1) aus einem ersten Material und eine weitere Schicht (2) aus einem zweiten Material aufweisen, und - eine auf der ersten periodische Schichtenfolge (10) angeordnete zweite periodische Schichtenfolge (20), die mindestens zwei Schichtpaare (34) aufweist, wobei die Schichtpaare (34) der zweiten periodischen Schichtenfolge (20) jeweils eine Schicht (3) aus einem dritten Material und eine weitere Schicht (4) aus einem vierten Material aufweisen, wobei - das dritte Material von dem ersten und dem zweiten Material verschieden ist, und - das dritte Material ein Oxid, ein Nitrid, ein Oxinitrid oder ein Carbid ist.

 

The invention relates to a multilayer mirror (100) for the EUV spectral range, comprising - a first periodic layer sequence (10) which has a plurality of layer pairs (12), the layer pairs (12) each having one layer (1) made from a first material and one further layer (2) made from a second material, and - a second periodic layer sequence (20) arranged on the first periodic layer sequence (10) and having at least two layer pairs (34), the layer pairs (34) of the second periodic layer sequence (20) each having one layer (3) made from a third material and one further layer (4) made from a fourth material, wherein - the third material is different from the first and the second material - the third material is an oxide or nitride of a transition metal and - the fourth material is silicon.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-310951.html