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Title
Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem- Ultraviolettstrahlung oder weicher Roentgenstrahlung
Date Issued
2005
Author(s)
Jonkers, J.
Vaudrevange, D.M.
Neff, W.
Patent No
2003-10342239
Abstract
Verfahren zum Erzeugen von Extrem-Ultraviolettstrahlung (EUV) oder weicher Roentgenstrahlung mit einer elektrisch betriebenen Entladung, insbesondere fuer die EUV-Lithographie oder fuer die Messtechnik, bei dem ein Entladungsraum vorbestimmbaren Gasdrucks und erste und zweite Elektroden verwandt werden, die zumindest an einem vorbestimmten Bereich einen geringen Abstand voneinander aufweisen. Um ein Verfahren der eingangs genannten Art anzugeben, das frei von den Nachteilen nach dem Stand der Technik ist und gleichzeitig ohne hohen Elektrodenverschleiss eine groessere Strahlungsleistung ermoeglicht, wird vorgeschlagen, dass ein Laserstrahl ein zugefuehrtes Medium im Bereich verdampft und der entstandene Dampf zu einem Plasma gezuendet wird, das eine Quelle der zu erzeugenden Strahlung ist, und dass als Medium eine Metallschmelze auf die Aussenoberflaeche der Elektroden aufgetragen wird.
WO2005025280 A UPAB: 20050427 NOVELTY - A plasma (22) is ignited in a gaseous medium produced from a metal melt (24), between two electrodes (14,16) in a discharge space (12), such that the gaseous medium is applied to a surface in discharge space and is partially evaporated by a laser beam (20). DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for extreme ultraviolet radiation or soft X-ray radiation production apparatus. USE - For producing extreme ultraviolet (EUV) radiation or soft X-ray radiation used for EUV lithography or metrology. ADVANTAGE - Allows greater radiation power without high electrode wear and provides uniform radiation intensity of laser beam.
Language
de
Institute
Patenprio
DE 2003-10342239 A: 20030911