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Verfahren und Vorrichtung zum Magnetronsputtern

Magnetron coating installation for depositing functional layers in the production of architectural glass comprises a first coating source, an auxiliary substrate, and a unit for determining the area density of the auxiliary substrate.
 
: Szyszka, B.; Pflug, A.

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DE 2003-10359508 A: 20031218
DE 2003-10359508 A: 20031218
WO 2004-EP13532 A: 20041129
DE 10359508 A1: 20050728
C23C0014
C23C0014
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IST ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Magnetronbeschichtungsanlage, bestehend aus einer ersten Beschichtungsquelle, einem Hilfssubstrat, einem Magnetron sowie Mitteln zur Bestimmung der Massenbelegung des Hilfssubstrates. Das Hilfssubtrat ist dabei zwischen der ersten Beschichtungsquelle und dem Bereich, welcher zur Aufnahme des zu beschichteten Substrates vorgesehen ist, angeordnet und bildet eine Kathode fuer das Magnetron. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Abscheidung duenner Schichten, bei welchem mittels einer ersten Beschichtungsquelle eine Schicht auf ein Hilfssubstrat abgeschieden wird und dieses Hilfssubstrat als Kathode zur Beschichtung eines Substrates mittels eines Magnetrons verwendet und die Massenbelegung des Hilfssubstrates bestimmt wird.

 

WO2005059197 A UPAB: 20050725 NOVELTY - Magnetron coating installation comprises a first coating source (5), an auxiliary substrate (2) arranged between the first coating source and the region for receiving the substrate (1) being coated, a magnetron (3), and a unit for determining the area density of the auxiliary substrate. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a process for depositing thin layers using the above installation. USE - For depositing functional layers in the production of architectural glass. ADVANTAGE - High quality layers are formed.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-30964.html