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Reflektierende Schichtenfolge mit Barriereschichten

Layer sequence used in an optical element for reflecting radiation having a specified wavelength comprises a substrate with barrier layers arranged between alternating scandium layers and silicon layers.
 
: Yulin, S.; Kaiser, N.; Feigl, T.

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DE 2003-10360540 A: 20031222
DE 2003-10360540 A: 20031222
DE 10360540 A1: 20050714
C03C0017
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IOF ()

Abstract
Bei einer Schichtenfolge zur Reflexion von Strahlung mit einer Wellenlaenge zwischen 35 nm und 50 nm, die eine Mehrzahl alternierender Scandiumschichten (3) und Siliziumschichten (2) enthaelt, ist an Schichtuebergaengen, an denen in Wachstumsrichtung eine Siliziumschicht (2) auf eine Scandiumschicht (3) folgt, jeweils eine Barriereschicht (4) enthalten, die bevorzugt eine Chromschicht ist. In einer zweiten Ausfuehrungsform der Erfindung ist auch an den Schichtuebergaengen, an denen in Wachstumsrichtung eine Scandiumschicht (3) auf eine Siliziumschicht (2) folgt, jeweils eine Barriereschicht (6) aus Chrom enthalten. Die thermische Stabilitaet und/oder die Reflexion einer derartigen Schichtenfolge wird dadurch verbessert.

 

DE 10360540 A UPAB: 20050826 NOVELTY - Layer sequence comprises a substrate (1) with barrier layers (4) arranged between alternating scandium layers (3) and silicon layers (2). USE - Used in an optical element for reflecting radiation having a wavelength of 35-50 nm. ADVANTAGE - The layer sequence has high thermal stability.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-30958.html