Fraunhofer-Gesellschaft

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Alignment accuracy in a mask aligner using substrate conformal imprint lithography (SCIL)

Poster presented at 39th International Conference on Micro and Nano Engineering, MNE 2013, 16 - 19 September 2013, London
 
: Schömbs, Ulrike; Fader, Robert; Verschuuren, Marc

:
Poster urn:nbn:de:0011-n-2688268 (811 KByte PDF)
MD5 Fingerprint: 6ea6cb4b59a88dfb8d826c55f9c95968
Erstellt am: 4.12.2013


2013, 1 Folie
International Conference on Micro and Nano Engineering (MNE) <39, 2013, London>
Englisch
Poster, Elektronische Publikation
Fraunhofer IISB ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-268826.html