Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Accuracy of wafer level alignment with substrate conformal imprint lithography

Presentation held at 12th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT), October 21 - 23, 2013, Barcelona, Spain
 
: Fader, Robert

:
Präsentation urn:nbn:de:0011-n-2649286 (581 KByte PDF)
MD5 Fingerprint: 4e4c3e0446fea00dc001d277e76408b0
Erstellt am: 6.11.2013


2013, 23 Folien
International Conference on Nanoimprint & Nanoprint Technology (NNT) <12, 2013, Barcelona>
Englisch
Vortrag, Elektronische Publikation
Fraunhofer IISB ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-264928.html