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Beschichtungsanlage und Verfahren zur Beschichtung

Device for coating a substrate used e.g. in biomedical applications has an additional unit for introducing a gas without layer-forming substances into the space of the gas discharge zone facing away from the substrate.
 
: Klages, C.; Eichler, M.

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DE 2002-10254427 A: 20021121
DE 2002-10254427 A: 20021121
DE 10254427 A1: 20040609
C23C0016
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IST ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Anlage zum Beschichten eines Substrats, mit einem Elektrodenpaar (1, 2) und einem dazwischen befindlichen Isolator (3), bei der die zwischen den Elektroden befindliche Gasentladungszone (4) zur Aufnahme des Substrats (5) ausgebildet ist, und mit Mitteln (6) zur Zufuehrung eines Gases mit schichtbildenden Substanzen in die Gasentladungszone (4) und die dadurch gekennzeichnet ist, dass Zusatzmittel (7) fuer die Einbringung eines Gases ohne schichtbildende Substanzen in den dem Substrat abgewandten Raumbereich (8) der Gasentladungszone vorgesehen sind.

 

DE 10254427 A UPAB: 20040716 NOVELTY - Device for coating a substrate comprises an isolator (3) arranged between a pair of electrodes (1, 2) so that a gas discharge zone (4) is formed between (1,2) to receive a substrate, and a gas feeding unit (6) for feeding a gas with layer-forming substances into (4). An additional unit (7) for introducing a gas without layer-forming substances into the space (8) of (4) facing away from the substrate. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a process for coating a substrate. USE - Used e.g. in biomedical applications. ADVANTAGE - Contamination of the electrodes is reduced.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-24878.html