Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Galvanik in der Mikrosystemtechnik

 
: Vogt, Holger; Heiermann, Wolfgang; Heß, Jennifer

ATZ-Elektronik 8 (2013), Nr.2, S.88-93
ISSN: 1862-1791
Deutsch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer IMS ()
Mikroelektronik; Aufbau- und Verbindungstechnologie; Galvanik; Hochtemperaturelektronik; Mikrosystemtechnik; microelectronic; electrochemical deposition; high temperature electronic

Abstract
Galvanische Verfahren zur Abscheidung metallischer dünner Filme haben ein weites Anwendungsfeld in der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik. Entsprechende Prozessoren sind ohne die mehrlagige Kupferverdrahtung der Transistoren undenkbar. Smart-Power-Schaltkreise profitieren von niederohmiger On-chip-Metallisierung. Nicht zuletzt eröffnet die Galvanik vielfältige neue Möglichkeiten in der Aufbau- und Verbindungstechnik zuverlässiger Elektronik und Sensoren. Das Fraunhofer-Institut für Mikrosystemtechnik (IMS) beschreibt die Potenziale neuer Anwendungen in der Leistungselektronik.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-238412.html