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2012
Book Article
Titel
PECVD- und ALD-Abscheidung und Charakterisierung von elektrischen Passivierungsschichten für die Photovoltaik
Abstract
Schichten zur elektrischen Passivierung von Siliziumwafern wurden mittels Atomlagenabscheidung (ALD) und Plasmaverstärkter Chemischer Gasphasenabscheidung (PECVD) hergestellt und hinsichtlich ihrer elektronischen und strukturellen Eigenschaften untersucht.