Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Evaluation of resistless Ga+ beam lithography for UV-NIL stamp fabrication

Poster at 11th International Conference on Nanoimprint & Nanoprint Technology, October 24-26, 2012, Silverado Resort, Napa, California
 
: Rumler, Maximilian; Fader, Robert; Haas, Anke; Rommel, Matthias; Bauer, Anton J.; Frey, Lothar

:
Poster urn:nbn:de:0011-n-2252692 (490 KByte PDF)
MD5 Fingerprint: 1168cb81fefd2aed4580a15882510f3e
Erstellt am: 18.1.2013


2012, 1 Folie
International Conference on Nanoimprint & Nanoprint Technology (NNT) <11, 2012, Napa/Calif.>
Englisch
Poster, Elektronische Publikation
Fraunhofer IISB ()
nanoimprint; UV-NIL; Gallium; implantation; reactive ion ecthing

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-225269.html