Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Simulation des reaktiven Magnetron-Sputterprozesses in Inline-Anlagen

 
: Pflug, A.; Szyszka, B.; Niemann, J.

:

JOT + Oberfläche. Journal für Oberflächentechnik 43 (2003), Nr.1, S.X-XIII
ISSN: 0940-8789
Deutsch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer IST ()

Abstract
Das reaktive Magnetronsputtern von optischen Schichten stellt eine industriell etablierte Beschichtungstechnologie dar, die sich durch hohe Produktivität und exzellente Schichteigenschaften auszeichnet. Dennoch besteht Bedarf fär weitreichende Optimierungen. Probleme resultieren vor allen aus den folgenden Bereichen: Schlechte Übertragbarkeit von Laborergebnissen auf Produktionsanlagen, hohe Kosten durch aufwändige Technologie und geringe Beschichtungsraten sowie eingeschränkte Produktqualität bei Spezialanwendungen, wie zum Beispiel der Festmaß- anstelle der Bandmaß-Beschichtung von Architekturglas. Gerade die wirtschaftlich hoch attraktive Prozessführung im Bereich instabiler Prozessparameter („Transition Mode“) erweist sich als industriell nur sehr schwer umsetzbar.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-20172.html