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Hohlkathoden-Plasmaquelle sowie Verwendung der Hohlkathoden-Plasmaquelle

 
: Jung, T.

:
Frontpage ()

DE 102010011592 A
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IST ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Hohlkathoden-Plasmaquelle sowie die Verwendung der Hohlkathoden-Plasmaquelle. Die erfindungsgemaesse Vorrichtung basiert auf der Grundlage des Hohlkathoden-Effektes insbesondere wird sie zum Gasflusssputtern fuer die Beschichtung von Gegenstaenden mittels physikalischer Dampfabscheidung im Vakuum eingesetzt. Dabei betrifft die Erfindung insbesondere die Art und Weise der aeusseren elektrischen Isolation der Kathode und der uebrigen Bauteile die das gleiche elektrische Potential fuehren.

 

The source has a hollow cathode (1) comprising an active surface (2) and a passive surface (3) that are utilized for generation of plasma (5). The hollow cathode is provided with a shield, which comprises an insulator material layer (6) that is made of glass, ceramics, mica, hard paper, hard fabrics, powder-type particle, granular particle and high power plastic. The shield is distanced to the passive surface in a boundary area under formation of a boundary gap (7), where the boundary area is adjacent to the active surface. An anode is arranged on the insulator material layer.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-199548.html