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Title
Verfahren zum Vakuumbeschichten eines Substrates mit einem transparenten leitfähigen Metallegierungsoxid sowie eine transparente leitfähige Schicht aus einem Metallegierungsoxid
Date Issued
2010
Author(s)
Fahland, M.
Schönberger, A.
Schönberger, W.
Straach, S.
Schiller, N.
Patent No
102010004991
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abscheiden einer transparenten leitfaehigen Schicht umfassend ein Wirtsmaterial und ein Dotiermaterial auf einem Substrat (2) innerhalb einer Vakuumkammer (1) wobei das Wirtsmaterial aus Zinkoxid oder Indiumoxid besteht und das Dotiermaterial ein Oxid mindestens eines der metallischen oder halbmetallischen Elemente aus der Hauptgruppe III oder IV umfasst wobei waehrend des Abscheidens des Wirtsmaterials mittels eines PVD-Prozesses Sauerstoff und ein Precursor in die Vakuumkammer (1) eingelassen werden wobei der Precursor das mindestens eine Element aus der Hauptgruppe III oder IV enthaelt und dass die Konzentration des Dotiermaterials im Schichtdickenverlauf mit einem Gradienten ausgebildet wird. Ferner betrifft die Erfindung eine transparente leitfaehige Schicht aus einem Metalllegierungsoxid.
The invention relates to a method for depositing a transparent, conductive layer, comprising a host material and a doping material, on a substrate (2) within a vacuum chamber (1), wherein the host material is made of zinc oxide or indium oxide and the doping material comprises an oxide of at least one of the metallic or semimetallic elements from the main group III or IV, wherein oxygen and a precursor are introduced into the vacuum chamber (1) while the host material is being deposited by means of a physical vapor deposition process, wherein the precursor contains the at least one element from the main group III or IV and the concentration of the doping material has a gradient in the course of the layer thickness. The invention further relates to a transparent, conductive layer made of a metal alloy oxide.
Language
de
Patenprio
DE 102010004991 A