Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

ALD of Copper and Copper Oxide Thin Films for Applications in Metallization Systems of ULSI Devices

	AVS, the Science and Technology Society: ALD 2008. DVD : June 29 - July 2, 2008, Bruges, Belgium 2008
	International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD) <8, 2008, Bruges>

	Englisch
	Konferenzbeitrag, Elektronische Publikation
	Fraunhofer ENAS ()