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Konferenzschrift
Non-reactive and reactive ion etching processes for patterning magnet MEMS components
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2003
Conference Paper
Titel
Non-reactive and reactive ion etching processes for patterning magnet MEMS components
Author(s)
Balke, M.
Lüthje, H.
Budde, T.
Gatzen, H.-H.
Bräuer, G.
Hauptwerk
MICRO.tec 2003: Applications - trends - visions. Proceedings
Konferenz
World Microtechnologies Congress (MICRO.tec) 2003
Language
English
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Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST