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DLC-Beschichtung auf SU-8-Fotoresist für piezoresistive Anwendungen in der Kraftsensorik

Coating SU-8 photoresist with DLC to be applied in piezoresistive force sensor systems
 
: Jordan, A.; Petersen, M.; Bandorf, R.; Büttgenbach, S.; Klages, C.-P.

Schlaak, H.F. ; Bundesministerium für Bildung und Forschung -BMBF-, Deutschland; Verband der Elektrotechnik, Elektronik, Informationstechnik -VDE-:
MikroSystemTechnik Kongress 2011 : 10.-12. Oktober 2011, Darmstadt
Berlin: VDE-Verlag, 2011
ISBN: 978-3-8007-3367-5
S.567-570
Konferenz "Systems Integration - Mikrosystemtechnik-Lösungen im Gebäude der Zukunft" <4, 2011, Dortmund>
MikroSystemTechnik Kongress <2011, Darmstadt>
Deutsch
Konferenzbeitrag
Fraunhofer IST ()

Abstract
In diesem Beitrag wird die Herstellung und Charakterisierung von DLC-Schichten für die Anwendung als piezoresistive Elemente in dreidimensionalen Kraftsensoren vorgestellt. Als Verformungselement wird eine Boss-Membran eingesetzt, an die über einen Taststift die angreifende Kraft übertragen wird. Da die Empfindlichkeit eines Kraftsensors im Wesentlichen von den Materialeigenschaften des Membranmaterials, hier dem Fotoresist SU-8, sowie von der Dehnungsempfindlichkeit der piezoresistiven Elemente abhängt, stehen diese im Vordergrund der Untersuchungen.

 

This paper reports on the coating of SU-8 photoresist with diamond-like carbon structured as piezoresistive elements of a three-dimensional force sensor. The SU-8 sensor design consists three parts - a membrane with integrated piezoresistive elements, a boss structure, and a frame. the probing force is applied to a probing sphere at the end of a stylus and causes a deformation of the membrane. As the operation of the force strongly depends on the membrane material properties as well as on the gauge of the strain sensitive material, both is being investigated systematically.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-185679.html